文/谛林 审核/子扬 校正/知秋
2020年以来，华为被层层禁令封锁一事让越来越多的普通群众意识到，当前中国半导体产业仍然处于受制于人的窘状。
不过，越来越严密的技术及设备封锁，也进一步激发了中国企业的斗志。于是，2020年下半年至今，国内各方心照不宣地加大了研发投入力度，加快了技术攻关进度。
我国中科院更是公开宣布，要将美国“卡脖子”名单转化为科研任务清单进行全面部署。
令人欣慰的是，在芯片突围的关键时刻，国内不少企业也都陆续传来好消息，例如南大光电。
南大光电传来好消息集微网1月7日消息，南大光电在投资者互动平台中表示，目前为止该公司的ArF光刻机已经在多个技术节点同时认证，不过尚未涉及14nm技术节点。
与此同时，受多方因素的影响，现阶段该公司的MO源和电子特气产品订单已经处于饱和状态。
另外，在电子特气方面，南大光电最新升级的产品也顺利通过了下游客户的认证，并且在测试过程中展现出了超过当下国际先进同行的技术水平。
更令人欣慰的是，南大光电还在光刻胶原材料方面取得了关键进展，实现了部分单体的国产化。
由此可见，在部分核心技术上，南大光电已经获得了阶段性成绩，尤其是在高端光刻胶的制备上，南大光电的进度处于国内行业领先状态。
高端光刻胶进入倒计时ArF光刻胶从理论上来讲可以被应用于90nm到14nm技术节点的集成电路制造工艺。
为了自主研制ArF光刻胶，南大光电曾利用某些渠道从海外购入了二手ASML的DUV光刻机。
如今看来，这台光刻机在南大光电研制ArF光刻胶发挥了不少作用。如果进展顺利的话，笔者相信南大光电的ArF光刻胶应该能够很快获得14nm技术节点的认证。
同时，也有望打入中芯国际的芯片制造生产线，如此一来也能够进一步推动本土芯片制造业的自主化。
不过，在笔者看来国产高端光刻胶想要彻底取代进口产品并不容易。
首先，光刻胶行业发展至今，美日韩巨头企业已经利用垄断地位不断固化产业链，让上下游企业之间的联系更加密切。
所以，多年来很少有行业新秀能够打破客户壁垒，撼动美日韩巨头企业牢不可破的产业格局。
这一方面是因为，在光刻胶技术上存在较大的差距，另一方面则是因为，下游客户不会冒险随意更换光刻胶供应商。
一旦光刻胶品质上存在缺陷，那么将如多米诺骨牌一般影响到下游产业链上的几乎所有企业。
因而，越是大厂，越不会接受行业新秀的光刻胶产品，所以南大光电其实很难在市场占有率取得优势。
其次，光刻胶行业具备极高的技术壁垒，这导致中国企业在技术攻关上面临的挑战十分严峻。
诚然，现阶段南大光电等头部企业都已经具备了ArF光刻胶的制备能力，但对于更高端的光刻胶产品，下游企业仍然高度依赖海外进口。
而且，国产光刻胶领域还存在行业集中度低的问题，这在很大程度上影响了国产光刻胶的整体攻关进度。
除此之外，国内光刻胶领域还需要时刻警惕海外断供风险，由此可见，国产光刻胶的自主化道路同样艰难。
写在最后不过，笔者相信，在南大光电等中国企业的努力下，在庞大内需的不断作用下，国产高端光刻胶终将实现进口替代。
标签： 光电芯片
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